这将会是接下来的一个长期市场机会。重磅会议之后，光刻胶等依赖进口的产业，会加速国产替代。今天就用一条视频让大家搞明白，什么是光刻胶？未来国产替代的市场有多大？

光刻胶的原理，简单比喻就像是老式照相机用的胶卷。我们制造芯片，相当于在硅片上刻电路图，而光刻胶由于对光源十分敏感，通过曝光，就可以把芯片的电路图印在光刻胶上，然后再清洗掉多余的光刻胶，就会留下设计好的线路。而芯片制程越高，对光刻胶的要求也越高，类似于相片的像素。

目前国内低端半导体的光刻胶国产率为10%，但这个不是市场主流，而主流的Krf、Arf光刻胶国产率，都只有1%。EUV光刻胶，国产率更是为0。

但反过来想，国产率越低，未来替代的空间就越大。这次重磅会议强调科技创新要饱和式投入，加上之前国家第三期大基金预期注资3440亿，其投入的主要方向就是光刻机、光刻胶等这些卡脖子的产业。

中高端的光刻胶，我国已经有不少公司取得了突破。比如在KrF光刻胶方面，北京科华、徐州博康2023年就开始销售了，上海新阳也实现了量产突破。

ArF光刻胶方面，彤程新材今年也开始量产，而南大光电两款产品已经通过认证，华懋科技和上海新阳的相关产品也进入测试阶段。

已经取得了突破，那接下来国产替代的速度就会加速。2023年我国光刻胶的市场规模为109.2亿元，年均复合增长率为10.9%，机构预计到2026年将超过200亿元。而这200亿，基本都是未来国产光刻胶的替代空间。

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