从国产替代空间来看,目前我国光刻机和半导体光刻胶国产化率均不足10%,国产替代空间广阔。在人工智能芯片与算力硬件需求大增的背景下,半导体行业发展为国产光刻胶带来机遇。国家“十四五”规划和集成电路专项政策重点支持高端光刻胶,国家大基金三期也向光刻胶产业链倾斜,预计未来五年将注入超百亿元资金。在技术上,国内企业加大研发,产学研协同创新机制渐趋完善,在光刻胶核心原材料自主研发上取得进展,突破“卡脖子”技术,推动国产光刻胶迈向规模化量产。
同时,近期光刻机领域成果频出,如芯上微装出货500台光刻机,璞璘科技交付全国首台喷墨步进式纳米压印光刻机,浙江大学的全国首台电子束光刻机进入应用测试阶段,这打破了进口垄断。光刻胶作为光刻机的上游配套材料,有望受益于光刻机国产替代的加速。
易方达旗下有相关追踪半导体相关指数的基金,例如易方达中证半导体材料设备主题ETF联接基金(A类021893;C类021894),该基金紧密跟踪中证半导体材料设备指数,聚焦“设备 + 材料”这一国产替代核心环节,有机会参与到光刻胶等材料的国产替代红利中;还有易方达中证芯片产业ETF(516350),它紧密跟踪中证芯片产业指数,覆盖芯片产业链各环节,也可能持有光刻胶公司个股,便于投资者一键布局芯片产业,把握国产替代带来的投资机遇。
发布于15小时前 广州



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