国产光刻机实现关键突破，半导体产业链自主化再提速
近日，上海芯上微装科技股份有限公司（AMIES）宣布，公司自主研发的首台 350nm 步进光刻机（AST6200）正式完成出厂调试与验收，启程发往客户现场。这一突破不仅标志着我国在高端半导体光刻设备领域取得重要进展，更为国产半导体装备向高端化、自主化迈进奠定了坚实基础，成为半导体产业链自主创新的重要里程碑。
光刻设备作为半导体制造的核心装备之一，其技术水平直接影响芯片制程工艺的突破，长期以来被少数国际企业垄断。芯上微装 350nm 步进光刻机的成功交付，打破了国外厂商在相关领域的市场壁垒，为国内半导体制造企业提供了更多国产化装备选择，有助于降低产业链对进口设备的依赖度。在国家政策支持与市场需求驱动下，国内半导体装备企业持续加大研发投入，在光刻、蚀刻、沉积等关键环节不断实现技术突破，推动产业链自主化水平稳步提升。
产业链协同发力下，半导体相关板块在资本市场表现活跃。博通集成凭借 AIoT 芯片、车规芯片量产实现扭亏为盈，股价收获涨停；东芯股份受益于 GPU + 存储芯片 + 车规级 + 国产替代多重概念，叠加 Q3 业绩增长利好，同样迎来股价上涨；明微电子在 MiniLED、MicroLED 芯片领域的技术突破与市场拓展，也推动其股价走强。随着国产光刻机等核心装备的技术突破与量产落地，半导体产业链上下游企业将迎来更多发展机遇，设备、材料、芯片设计等细分赛道有望持续受益于自主化进程，为我国半导体产业高质量发展注入强劲动力。

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