中国需求旺盛、但ASML“难以供给”

倒逼国产替代提速、激活概念股

英特尔宣布其Fab D1X 研发晶圆厂完成世界首台商用 High NA（0.55NA） EUV 光刻机的组装工作，目前已进入光学系统校准阶段。这台光刻机型号 TWINSCAN EXE:5000，为 ASML 的首代 High NA EUV 光刻机，价值约 3.5 亿美元。

此前，因为“业绩不及预期”，ASML股价一度崩跌。相较于2023年第四季度创纪录的91.9亿欧元的订单额，其今年一季度的订单下滑了超60%，远低于市场预期的51亿欧元。

从ASML公布的数据看，其一季度光刻机销量为70台，而上一季度一共销售光刻机124台，相当于这一个季度就少卖了58台光刻机。显然中国大陆减少对ASML光刻机的进口，这会严重影响ASML的业绩。

数据显示，2023年，中国已经是ASML的第一大客户，中国贡献的营收占比达到29%，相比于2022年的14%，直接是翻倍。而且，即使是在“销量下滑的2024年一季度”，ASML来自中国大陆的营收占比仍然高达49%。

这意味着，目前中国对光刻机等半导体设备的需求仍然旺盛。但在美国各种限制之下，国内一方面要“尽快消化此前‘提前大批量抢购’的光刻机”，一方面，自然是大力推动“国产化替代”。

目前，全球光刻机市场规模超230亿美元，国内市场超200亿元，但不管是高端光刻机还是光刻胶，国产化率都极低（仅2.5%左右）。

不过，目前国内也有在高端光刻胶方面进程较快的公司，如容大感光、南大光电、安集科技、彤程新材、上海新阳、鼎龙股份等。

具体到A股市场，未来两年，全球各大晶圆厂将扩充产能，对于光刻机等半导体设备的需求加大。预计到2027年，全球将投入高达1370亿美元建晶圆厂、买设备等。旺盛的需求与海外的设备出口限制，进一步倒逼国内的光刻机/光刻胶等半导体设备国产化提速，行业发展迎来机遇，国内相关企业受益。

根据市场公开资料显示，相关概念股包括：波长光电、东方嘉盛、百川股份、蓝英装备等。

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