虽然上半年净利下降超九成，但上海新阳并未停下其开拓新领域的步伐。周五公布中报的同时，公司同时公布两个增资和融资公告，都涉及其近年来重点投入的光刻胶领域。

周五（14日）晚间，上海新阳发布2020年半年度报告，实现营业收入3亿元，同比增长8.26%；扣非后归属于母公司净利润2529.10万元，同比增长80.52%；归属于上市公司股东的净利润2592.86万元，同比下降90.63%。

公司指出，合并后净利润较去年同期大幅下降，主要原因是上年同期公司资产置换产生的投资收益对净利润影响26,188万元。

公司表示，目前正在加快开发第三大核心技术——光刻技术，在集成电路制造用ArF干法、KrF厚膜胶、I线等高端光刻胶领域已有重大突破。同时，积极布局半导体硅片、半导体湿法工艺设备、平板液晶显示用光刻胶、半导体芯片制造用研磨液等业务领域。

更加耐人寻味的是，在半年报发布当天，上海新阳还连发两则公告，拟对全资控股公司芯刻微引入外部投资者，同时，拟定增募资不超15亿元，用于集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目等，均与其光刻胶项目相关。

种种迹象表明，对于光刻胶，上海新阳志在必得。

两则公告剑指光刻胶

根据公告，8月13日，上海新阳、芯刻微与超成科技签署了《增资及股权转让协议》。芯刻微公司注册资本由人民币1亿元增至1.5亿元，新增的注册资本由新股东超成科技全额认购，并全部计入注册资本。本次增资后，公司将以0元转让所持有的芯刻微28.67%股权（该部分股权尚未实际出资）给超成科技，由超成科技按照芯刻微公司章程约定的期限履行该部分股权的出资义务，对应认缴出资额人民币4300万元。

据了解，芯刻微由上海新阳和上海逸纳于2018年3月共同出资设立，上海新阳持有芯刻微80%的股权，计划投资2亿元，共同开发193nm（ArF）干法光刻胶研发及产业化，但双方合作关系于次年5月终止，芯刻微目前系上海新阳全资子公司。

本次交易完成后，上海新阳将持有芯刻微38%的股权，未来芯刻微将仅进行ArF湿法光刻胶项目的研发，所有与ArF干法光刻胶相关的资产、人员、合同权利义务等将转移至上海新阳。

而根据定增公告，上海新阳此次拟向特定对象发行募集资金不超过15亿元（含15亿元），扣除发行费用后拟将7.32亿元用于集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目，3.48亿元用于集成电路关键工艺材料项目，4.20亿元用于补充公司流动资金。

据公告所说，光刻胶项目主要开发集成电路制造中ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3D NAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶产品，力争于2023年前实现上述产品的产业化，打破国外垄断，填补国内空白，达到国际先进技术水平。

若项目按计划进度进行，预计KrF厚膜光刻胶2021年开始实现少量销售，2022年可实现量产，预计ArF（干式）光刻胶项目在2022年可实现少量销售，2023年开始量产，预计当年各项产品销售收入合计可达近2亿元。经公司测算，本项目预计内部收益率（所得税后）为26.14%，投资回收期（所得税后）为7.47年，项目净现值为7.23亿元（假设必要收益率为12%）。

光刻胶布局已久 实质性突破在即？

事实上，上海新阳对光刻胶这一半导体材料关键领域，早已“虎视眈眈”，2016年底即已立项研发193纳米干法光刻胶。

2018年3月，上海新阳和上海逸纳共同出资设立芯刻微，从事193nm干法高端光刻胶产品的研究与产业化工作，但双方于次年5月终止合作；同年12月，公司以自有资金投资江苏博砚电子科技有限公司，持有博砚电子公司10%的股权。博砚电子主要从事平板显示产业用相关光刻胶产品的开发、生产。

2019年10月，上海新阳启动合肥第二生产基地项目的建设。合肥基地占地115亩，总投资约6亿元。按照部署，一期计划投资3亿元，占地50亩，达产后形成年产15000吨超纯化学材料产品的生产能力。根据公司在定增公告中所说，此次定增拟将部分资金投资于该项目。

根据前瞻产业研究院的数据，2017年全球半导体光刻胶市场规模12.05亿美元。从全球半导体光刻胶分类市场份额占比来看，g/i线光刻胶市场份额占比为24.0%，KrF光刻胶市场份额占比为22.0%，ArF/液浸ArF光刻胶市场份额占比为41.0%。

近些年来，全球半导体厂商纷纷在中国大陆投资设厂，如台积电南京厂、联电厦门厂、英特尔大连厂、三星电子西安厂、力晶合肥厂等。诸多半导体工厂的设立，也拉动了国内半导体光刻胶市场需求增长，数据显示，2018年中国的晶圆光刻胶的市场规模大约26.91亿元。

然而，据东吴证券分析师柴沁虎3月16日报告整理，从供应结构看，国内半导体光刻胶市场基本为外资企业把控，其中适用于6英寸硅片的G/I线光刻胶的自给率分别约为60%和 20%，适用于8英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足1%，而适用于12寸硅片的ArF光刻胶100%依赖进口。

本土企业中，苏州瑞红和北京科华已经实现了I线光刻胶的量产，并且通过了中芯国际的上线测试。容大感光开发的I线正性光刻胶产品已经小批量产。

柴沁虎在上述报告中指出，上海新阳一直致力于进行半导体用光刻胶的产业化，虽然中间走过一段弯路，但参股博砚电子后，可以有效借鉴博砚电子的成功经验。同时，公司和博砚电子也有一定程度的产业协同，认为公司是国内最有可能率先在集成电路制造用高端光刻胶取得实质性突破的企业。

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