引言：随着我国经济发展进入更加重视质量与创新的新时代，一批“专业化、精细化、特色化、新颖化”的企业逐渐成为我国创新的发源地，资本市场的发展也在与时俱进，北交所设立的核心目标之一就是为“专精特新”中小企业服务。为此，新浪财经在浙商证券(12.450, -0.03, -0.24%)研究所策略研究团队提供的榜单数据支持基础上，推出“专精特新TOP100”系列报道，旨在外绝一批主营业务聚焦，创新能力强，成长性高，专注于细分市场的小巨人。

  2021年半年报显示，南大光电(51.290, 1.29, 2.58%)实现营业收入4.42亿元，同比增长 69.14%；归属于上市公司股东的净利润 8552.02 万元，同比下降 3.23%；考虑到上年同期出售参股公司股权确认的投资收益的一次性因素，主营利润的实际增长快速，上半年归属于上市公司股东的扣除非经常性损益后的净利润 6587.35 万元，同比增长 4013.99%。

  南大光电是一家专业从事先进电子材料高新技术企业，三大业务分别为先进前驱体材料、电子特气和光刻胶。

  MO源工艺领先打破国外垄断 市占率超40%

  MO源是光电产业的支撑材料之一，其纯度、品质对最终的光电器件或高频器件的质量和性能起着决定性作用。 MO源即高纯金属有机源，是利用先进的金属有机化学气相沉积（以下简称“MOCVD”）工艺生成化合物半导体材料的关键支撑原材料，因而又被称为MOCVD的“前驱体”。 MO源的质量直接决定了最终器件的性能，因此MOCVD工艺对MO源的质量要求很高，其中纯度是衡量MO源质量的关键指标。

  这个行业历史上一度属于国外垄断。2000 年南大光电成立时依托公司创始人孙祥祯先生的研发成果，公司 MO 源成功实现产业化，打破国外在这一光电子原材料领域的垄断地位。

  MO源行业具有寡头垄断市场特征。目前全球范围内MO源的生产厂商较少，只有中国、美国、欧洲、日本四个区域的少数几个公司拥有产业化生产的能力。

  公司是全球主要的MO源生产商，在国内市场处于领导地位。南大光电成长为全球 MO源主要生产商，全球市占率超过 40%，在 MO 源的合成制备、纯化技术、分析检测、封装容器等方面已全面达到国际先进水平。

  南大光电在MO源的合成制备、纯化技术、分析检测、封装容器等方面已全面达到国际先进水平，主要产品有三甲基镓、三甲基铟、三乙基镓、三甲基铝等，产品的纯度大于等于6N，可以实现MO源产品的全系列配套供应，同时可以根据客户需求提供定制产品服务，在激烈的市场竞争中，具有明显的竞争优势。

  与此同时，南大光电的合成环节采用独特的合金法，该方法和卤化物法相比工艺简单，原料无腐蚀性，副产物少，且价格便宜，有效解决 MO 源污染严重的问题。

  多元化布局对冲行业波动

  公司自 2017 年后 MO 源三甲基镓、三甲基铟占主营业务比重逐年降低，公司依赖 LED 行业景气度的情况得到改善，特气业务有效弥补了因 LED行业下行带来的 MO 源增速减缓。

  今年半年报显示，特气产品已经是公司收入第一大贡献源，且毛利率也较高，具体如下图：

  公司为了规避行业波动性，开始积极向其他半导体材料领域布局，包括全椒南大光电磷烷、砷烷产品的开发，收购飞源气体布局含氟特气业务，以及正在研发产业化当中的 ArF 光刻胶项目。

  在磷烷、砷烷产品方面，公司自 2013 年起立项攻关，在 2016 年完成一期量产，年产 35 吨高纯磷烷、15吨高纯砷烷，产品纯度均达到 6N 标准以上级。根据相关信息显示，目前公司已占据国内 75%市场份额，并进入英特尔、欧司朗、飞利浦等一流公司供应商名录。

  在氢类电子特气领域，公司打破了国外技术封锁和垄断，成功实现了国产磷烷、砷烷的产业化，实现进口替代，并快速占据国内市场份额，因此南大光电是国产磷烷、砷烷制造的领军企业。

  飞源气体方面，相比其他竞争对手具有成本优势和客户认证优势。根据公开信息显示，成本端国内主要竞争对手第一套 NF3 装置的总投资规模从 2.7 亿元/千吨到 4 亿元/千吨不等，行业中位数3.1 亿元。而飞源气体的 NF3 一套装置总投资远低于上述水平。目前，已成为国内集成电路及平板显示领域多家领军企业的重要供应商。

  光刻胶方面，公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶（包含干式及浸没式）可以达到90nm-14nm的集成电路工艺节点，将实现高端光刻胶材料的进口替代，提升国家关键材料领域自主可控水平，解决“卡脖子”技术难题。

  值得一提的是，2017及2018年，公司分别获得国家02专项“高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品关键技术研发”和“ArF光刻胶产品的开发和产业化”项目的正式立项。经过几年的组织建设和技术攻关，上述项目分别于2020年5月和2021年7月通过国家02专项专家组的验收。

  此外，公司是国内ArF光刻胶研发和产业化的领先企业。 2020年12月，公司研发的ArF光刻胶产品在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，报告期内又在一家逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破，为ArF光刻胶的规模化量产奠定基础。公司正在积极推动客户验证和量产工作，相关配套材料产业化也在稳步推进。