堪称国内半导体设备最高水平，持续新品开发储备增长势能

国际市场，高端刻蚀设备已占一席之地，CCP市占率1.4%，虽销售规模与三巨头差距较大，但部分技术已达国际同类产品标准；国内市场，具有突出竞争力，在本土主流存储、Foundry厂的招标采购比例超过15%，且市占率加速提升。具体来看：1）逻辑IC方面，高端刻蚀设备已运用在国际知名客户65-7nm生产线上；根据先进IC厂需求，已开发出5nm设备用于若干关键步骤加工，并已获行业领先客户批量订单；配合客户需求，开发新一代刻蚀设备和包括更先进大马士革在内的刻蚀工艺，可涵盖5nm以下刻蚀需求和更多不同关键应用的设备。2）3DNAND方面，CCP可应用于64层量产；根据存储器厂需求正在开发新一代可涵盖128层关键刻蚀应用以及对应极高深宽比的刻蚀设备和工艺。3）ICP已在多个逻辑、存储厂的生产线上量产，并根据客户需求进行下一代产品技术研发，以满足7nm以下逻辑芯片、1X纳米DRAM芯片和128层以上3DNAND芯片等产品的ICP刻蚀需求，并进行高产出的刻蚀设备的研发。

公司是国产半导体设备明星企业：1）行业层面：全球半导体市场有望于2020年回暖；半导体产业向中国转移，国内存储、Foundry厂商新建产线陆续投产、扩产，封测厂商配套新增晶圆制造产能投入产线建设，将拉动对上游设备的需求；IC制造工艺的制程越先进、复杂程度越高，对刻蚀工艺的使用频率、技术要求越高，将促使刻蚀设备用量的增加以及技术的升级；2）公司层面，技术国内领先、国际先进，已有产品获得海内外客户高度认可，持续与下游客户配合开发更高端应用，为中长期业绩增长储备势能。我们看好公司未来的发展前景，预计公司2020/2021/2022年可分别实现EPS0.47/0.54/1.03元，对应PE448/387/204倍，首次覆盖，给予“增持”评级。

风险提示：全球疫情拖累半导体市场复苏、国产化进展缓慢、新产品开发验证不及预期、涉及行政专利诉讼案件的进展或引发市场情绪波动。

本文节选开源证券报告《中微公司（688012）首次覆盖报告：大国重器蓄势待发，国产替代正当逢时》，具体分析内容（包括相关风险提示等）请详见相关报告。若因对报告的摘编而产生歧义，应以报告发布当日的完整内容为准。