光刻胶又叫光致抗蚀剂，是一种对光、电子束等辐照敏感的高分子功能性材料，也是半导体、显示面板、PCB印制电路板等高端制造领域里，实现精准图形转移的核心耗材，直接决定了芯片、面板能做到多细的线路精度，也就是咱们常说的制程节点。

它的工作逻辑其实很好理解：先把光刻胶均匀涂在晶圆、玻璃基板这类基底上，再通过掩膜板把提前设计好的电路图案投影到光刻胶表面，曝光区域的化学性质会发生改变，之后用显影液洗掉对应区域，就能把掩膜板上的图案复刻到基底上，后续再通过刻蚀就能把图案转移到材料内部。

常见的光刻胶可以按两种方式区分：按显影效果分正性和负性，半导体先进制程大多用正性胶，分辨率表现更好；按应用场景分半导体级、面板级、PCB级，其中半导体级要求最高，需要达到纳米级的超高纯度和分辨率。目前国内中低端PCB级光刻胶已经实现自主供应，高端半导体级光刻胶也在加速国产替代的进度。

如果您是因为想了解光刻胶相关的投资机会才咨询的，或是有证券开户、佣金优惠、投资咨询等需求，都可以点击我的头像一对一沟通，我有10年的券商服务经验，能帮您对接专属的服务和优惠。