国内在光刻机领域有突破的公司主要有:
上海微电子:作为国内光刻机设备领域的领航者,承担着国产光刻机设备的希望,能生产28nm及以上制程的光刻机,即将量产,且可通过多重曝光制造7纳米芯片。
赛微电子:为ASML提供透镜系统MEMS部件和晶圆制造服务,其全资子公司瑞典Silex是全球领先的纯MEMS代工企业,正在瑞典扩充产能,同时北京“8英寸MEMS国际代工线”已投入运营。
炬光科技:为上海微电子等企业提供了半导体激光退火系统以及核心元器件。
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