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光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体，主要由感光树脂、增感剂和溶剂等三种主要成分构成。其在微电子技术中起着关键作用，是微细图形加工的核心材料。在半导体材料的表面加工时，可以使用适当的有选择性的光刻胶在表面上得到所需的图像。
按光刻胶形成的图像分类，光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶。在光刻工艺过程中，经过涂层曝光和显影后，若曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，那么该涂层材料称为正性光刻胶；反之，如果曝光部分被保留下来，而未曝光部分被溶解，该涂层材料称为负性光刻胶。
此外，光刻胶还广泛应用于PCB、显示面板、半导体等领域的图形转移。市场前景看好，与芯片、PCB、LCD等行业的关系密切。
至于光刻胶概念股，主要包括华西证券、七彩化学、双乐股份、扬帆新材和普利特等公司。其中强力新材（300429）和雅克科技（002409）被视为龙头股。
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小鹿经理 
回答时间：2024-04-10 14:23 
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